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  • 密閉制冷加熱控溫系統(tǒng)-25℃ ~ 200℃標準拖二

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉制冷加熱控溫系統(tǒng)-25℃ ~ 200℃標準拖二

    更新時間:2024-12-27

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 密閉高低溫循環(huán)泵-25℃~200℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉高低溫循環(huán)泵-25℃~200℃

    更新時間:2024-12-27

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  • 密閉制冷加熱循環(huán)設備-70℃~250℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉制冷加熱循環(huán)設備-70℃~250℃

    更新時間:2024-12-27

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  • 密閉制冷加熱循環(huán)器(實驗型)SUNDI-420W

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉制冷加熱循環(huán)器(實驗型)SUNDI-420W

    更新時間:2024-12-27

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  • 密閉制冷加熱體機-SUNDI-320

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉制冷加熱體機-SUNDI-320

    更新時間:2024-12-27

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  • 密閉高低溫循環(huán)裝置-25℃~200℃

    寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,Z大溫度范圍:-25℃~200℃。寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,Z大溫度范圍:-25℃~200℃。密閉高低溫循環(huán)裝置-25℃~200℃

    更新時間:2024-12-27

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